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      一、主要用途:(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。二、主要性能指標:(1) UV-LED紫外燈平行光光

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      一、主要用途:(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。二、主要性能指標:(1) 高均勻性曝光頭。a、 采用

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      一、主要用途主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。二、主要性能指標:曝光類型:版版對準雙面曝光曝光面積:≥φ100mm曝光不均勻性:≤±

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