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    G-31D4型高精密雙面光刻機

    G-31D4型高精密光刻機 產品介紹:設備概述 本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,它主要用于中小規模…

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    G-31D4型高精密光刻機

    產品介紹:

    設備概述

    本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。

    主要構成

    本設備為板板對準雙面曝光

    主要由雙目視場CCD顯微顯示系統、二臺4"LED專用曝光頭、PLC電控系統、高精度對準工作臺、Z軸升降機構、真空管路系統、氣路系統、直聯式真空泵、二級防震工作臺等組成。

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    曝光頭部件圖

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    CCD顯微系統|XYQ對準工作臺

    主要功能特點

    1.適用范圍廣
    適用于φ100mm以下厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光,雙面可同時曝光,亦可用于單面曝光。

    2.結構先進
    Z
    軸采用滾珠直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構,真空吸版,防粘片機構。

    3.操作簡便
    X\Y
    移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式;
    吸版、反吹采用按鈕方式,操作、調試、維護、修理都非常簡便。

     4. 可靠性高
    采用進口(日本產)電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動系統、真空管路系統和

    精密的機械零件,使本機運行具有非常高的可靠性。
    5.
    特設功能
    除標準承片臺外,還可以為用戶定制專用承片臺,來解決非圓形基片、碎片和底面

    不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

    主要技術指標

    1曝光類型:版版對準雙面曝光

    2、曝光面積:110×110mm

    3、曝光照度不均勻性:≤±3%

    4、曝光強度:030mw/cm2可調;

    5、紫外光束角:≤3?

    6、紫外光中心波長:365nm

    7、紫外光源壽命:≥2萬小時;

    8、工作面溫度:≤30℃


    9、采用電子快門;


    10、曝光分辨率:1μm(曝光深度為線寬的10倍左右)


    11、曝光模式:雙面同時曝光

    12、對準范圍:X:±5mm Y:±5mm

    13、套刻精度:1μm


    14、旋轉范圍:Q向旋轉調節≤±5°


    15、顯微系統:雙視場CCD系統,物鏡1.6X~10X,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;


    16、掩模版尺寸:能真空吸附4"方形掩板,對版的厚度無特殊要求(1~3mm皆可)。


    17、基片尺寸:適用于Φ3"mm圓形基片(或3"×3"mm方形基片),基片厚度≤5mm。


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